AIptent-logo

用于 EUV光刻设备和其他应用的非接触式光学元件形状测量, 精度达2纳米

↓↓↓文章末尾获取原文链接↓↓↓

 
 

本文2278字,阅读约需7分钟

摘   要:本研究将用于平面形状高精度测量的SDP(扫描差动测角法)扩展到曲面上,引入可自动校正误差的高精度角度测量技术(SelfA),从而能够通过测量曲面镜的局部角度分布,以2纳米精度非接触地测量绝对形状。

关键词:曲面镜、绝对形状、EUV光刻、非接触式测量、纳米精度

 

要点

 
 
 
  • 通过测量曲面镜的局部角度分布,能够以2纳米精度非接触地测量绝对形状

     

  • 利用可自动校正误差的高精度角度测量技术(SelfA),可以在大范围内高精度地测量局部角度

     

  • 为EUV光刻设备及同步辐射设施等所用的超高精度光学元件的制造、开发与评估做出贡献

 

10.png

 

表情
Ctrl + Enter