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成功对MoS2边缘表面加工进行光谱测量

 

https://www.issp.u-tokyo.ac.jp/maincontents/news2.html?pid=28505

https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.5c04876

 

 

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本文772字,阅读约需3分钟

摘   要:本研究利用激光加工、同步辐射光电子能谱和第一性原理计算,直接观察和分析了MoS2边缘表面的电子状态和表面反应,为实验性研究之前难以选择性观察的原子层材料边缘面这一特殊表面的物理性质和反应提供了一种新的方法和反应场。

关键词:MoS2、边缘表面、光谱测量、催化活性位点、加氢脱硫催化剂

 

研究小组利用激光加工和显微光谱技术,成功地选择性、直接观察了被认为存在有催化活性位点的二硫化钼(MoS2)边缘表面的电子状态和化学反应。

 

作为一种典型的层状材料,MoS2在工业上广泛用作加氢脱硫等工艺的催化剂,其活性点被认为存在于层被切割时暴露出来的边缘处。然而,由于很难制作出具有足够宽度的干净边缘表面进行光谱测量,因此很难选择性地、直接地观察边缘表面特有的电子态和表面反应。

研究小组通过超短脉冲激光垂直于基面切割MoS2单晶,制作了干净的MoS2边缘表面,并对该边缘表面进行了显微拉曼和显微光电子能谱测量。测量的价带光电子能谱显示,费米能级附近观察到了边缘表面特有的金属态,而核心能谱显示边缘表面存在配位不饱和的Mo。

 

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