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摘要：研究小组聚焦在红外光通信波段表现出ENZ特性的氧化铟锡（ITO），并对其进行了磁光效应的分析。通过采用不同氧浓度的溅射法制作ITO薄膜，结果证实了它们在通信波段的不同波长下表现出ENZ特性。

关键词：ENZ特性、氧化铟锡（ITO）薄膜、磁光效应、光通信、磁光材料

日本电磁材料研究所、庆应义塾大学、中国科学院和东京大学重点关注介电常数接近于零、具有被称为ENZ效应的特性的氧化铟锡，进行了实验分析和数值计算，结果表明，ENZ材料的磁光效应在光通信波段得到了显著增强。

由于磁光效应在实现非互易性方面发挥着至关重要的作用，因此它们在构建功能光学系统中变得越来越重要。然而，众所周知，磁光效应在光的波长下相当弱。由于其导致光学器件的尺寸增加，因此这一直是具备有光隔离器的光集成电路小型化的障碍。

本研究中研究的磁光分析示意图。

研究小组重点关注了据报道在红外光通信波段表现出ENZ特性的氧化铟锡（ITO），并对其进行了磁光效应的分析。通过采用不同氧浓度的溅射法制作ITO薄膜，结果证实了它们在通信波段的不同波长下表现出ENZ特性。

磁光效应的测量证实，法拉第旋转角在表现出ENZ特性的波长附近出现峰值，并且克尔旋转角在介电常数约为1的波长附近形成峰值。

由于数值计算结果也与实测数据基本一致，因此研究证实，在表现出ENZ特性的ITO薄膜中，法拉第效应在表现出ENZ特性的波长附近增强，而克尔效应在介电常数约为1的波长附近增强。

上述结果表明了利用ENZ制备一种能够在宽带上工作并表现出大磁光效应的新材料的可行性。研究小组已经开始开发将ENZ材料与铁磁材料相结合的材料，并成功观察到基于ENZ特性的性能变化。

研究小组表示，本研究成果将为ENZ材料开辟新的应用可能性，并为ENZ光子学的进一步发展做出贡献，例如新型磁光材料的开发和光路更高密度集成的进步。

研究小组还表示，除了有助于拓扑光子学研究的发展，通过将其与应用于纳米颗粒结构等的铁磁材料相结合，有望开发出新型磁光材料。

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发现ENZ材料中的增强磁光效应