本文762字，阅读约需2分钟
摘 要：日本名古屋大学的研究小组发表了“高速制膜法”，能够在约1分钟的短时间内，将氧化物、石墨烯、氮化硼等二维材料（纳米片）无间隙地排列在基板上，制备出薄膜，并用于制造元器件。
关键词：纳米片、制膜、胶体、移液、吸取、半导体
日本名古屋大学的研究小组发表了一项新技术——“高速制膜法”，该技术能够在约1分钟的短时间内，将氧化物、石墨烯、氮化硼等二维材料（纳米片）无间隙地排列在基板上，并制备出薄膜。1滴溶液可在1分钟的时间内自动制备高质量的纳米片薄膜。
纳米片有望在电子和能源领域得到广泛的应用，为了最大限度地发挥其优异的功能并将其制作成元器件，将纳米片密集排列在各种基板表面上，并制备薄膜非常重要。然而，传统的制膜工艺需要大约一个小时才能制备出单层薄膜，因此需要一种简单且快速的制膜方法。
研究团队使用自动移液器在基板上滴下氧化物、石墨烯、氮化硼等纳米片的胶体水溶液，并通过简单的吸取操作，使纳米片之间无间隙地紧密排列，成功地在大约1分钟内自动制备出密集排列的单层薄膜。