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摘 要：研究小组开发了一种全新概念的熔盐，其兼具“盐的高水溶性”和“高电镀能力”，使用KF-KCl和CsF-CsCl，成功地对硅、钛和钨进行了电镀，并证实了可以获得光滑致密的薄膜。
关键词：熔盐、电镀、KF-KCl&CsF-CsCl、硅·钛·钨、实用化
基于新概念的硅·钛·钨电沉积用熔盐
——旨在实现熔盐电镀技术的实用化
熔盐是指盐本身熔化并仅由离子组成的液体。例如，将常见的盐NaCl加热至熔点以上并熔化，就会变成仅由Na+和Cl-组成的液体。由于熔盐在电化学上很稳定，因此可以从熔盐中电沉积出各种金属。因此，熔盐有望在金属冶炼和电镀领域中得到应用，并且已在铝冶炼等领域实现了实用化。然而，当使用熔盐进行电镀时，附着在镀膜表面的盐会固化，难以将其干净地去除是实现其实用化的一大挑战。
研究小组开发了一种全新概念的熔盐，其兼具“盐的高水溶性”和“高电镀能力”。具体而言，使用KF-KCl和CsF-CsCl，成功地对硅、钛和钨进行了电镀，并证实了可以获得光滑致密的薄膜。
该技术可应用于其他金属的电镀，并且有望得到进一步的发展。