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摘要：研究小组开发了一种全新概念的熔盐，其兼具“盐的高水溶性”和“高电镀能力”，使用KF-KCl和CsF-CsCl，成功地对硅、钛和钨进行了电镀，并证实了可以获得光滑致密的薄膜。

关键词：熔盐、电镀、KF-KCl&CsF-CsCl、硅·钛·钨、实用化

基于新概念的硅·钛·钨电沉积用熔盐

——旨在实现熔盐电镀技术的实用化

熔盐是指盐本身熔化并仅由离子组成的液体。例如，将常见的盐NaCl加热至熔点以上并熔化，就会变成仅由Na⁺和Cl^-组成的液体。由于熔盐在电化学上很稳定，因此可以从熔盐中电沉积出各种金属。因此，熔盐有望在金属冶炼和电镀领域中得到应用，并且已在铝冶炼等领域实现了实用化。然而，当使用熔盐进行电镀时，附着在镀膜表面的盐会固化，难以将其干净地去除是实现其实用化的一大挑战。

研究小组开发了一种全新概念的熔盐，其兼具“盐的高水溶性”和“高电镀能力”。具体而言，使用KF-KCl和CsF-CsCl，成功地对硅、钛和钨进行了电镀，并证实了可以获得光滑致密的薄膜。

该技术可应用于其他金属的电镀，并且有望得到进一步的发展。

本研究中电镀示意图

研究员评论

“本研究总结了我从学生时代以来一直致力于研究的成果，非常高兴这一研究能够得到发表。未来我还将继续致力于该研究，不断提高熔盐电镀技术。”

“对于多年来研究的利用熔盐的电镀技术已经达到了可以实用化的水平，我感到非常激动和兴奋。相关有趣的研究主题还有很多，例如阐明电沉积机理和探索其在新金属中的应用等，因此未来我想怀着兴奋的心情继续这项研究。”

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